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濺射蒸碳儀 掃描電鏡實驗室樣品制備蒸發(fā)器 濺射蒸碳分析儀

  • 簡單描述
  • 是依據(jù)二極(DC)直流濺射原理設計而成的,Z簡單、可靠、經(jīng)濟的鍍膜設備。同時增加了熱蒸發(fā)附件,具有濺射和蒸發(fā)兩種功能。
    滿足電鏡實驗室的掃描電子顯微鏡(SEM)樣品制備和非導體材料實驗電極制作。
  • 產品型號:  HG19-ETD-2000C
  • 更新時間:  2024-04-06
  • 訪問次數(shù):  3290
詳細介紹

濺射蒸碳儀 掃描電鏡實驗室樣品制備蒸發(fā)儀 濺射蒸碳分析儀 

型號:HG19-ETD-2000C

是依據(jù)二極(DC)直流濺射原理設計而成的,zui簡單、可靠、經(jīng)濟的鍍膜設備。同時增加了熱蒸發(fā)附件,具有濺射和蒸發(fā)兩種功能。

滿足電鏡實驗室的掃描電子顯微鏡(SEM)樣品制備和非導體材料實驗電極制作。

特點:

增加了熱蒸發(fā)附件,可以蒸發(fā)碳絲,具有濺射和蒸發(fā)兩種功能。因此擴展了應用范圍,特別適用于掃描電鏡實驗室樣品制備。

配置參數(shù):

- 儀器尺寸 : 400mm×300mm×400mm(L×W×H)

- 真空樣品室: 硼硅酸鹽玻璃 160mm×110mm(D×H)

- 靶(上部電極): 50mm×0.1mm(D×H)

- 樣品臺: 50mm (D)

- 操作真空: 4×10-1mbar至2×10-2mbar

- 工作電壓: 0-1600V (DC)可調

- 濺射電流: 0-50mA

- 濺射定時: 1-9999S

- 蒸碳電流 0-10A(AC)

- 真空泵: 4升兩級機械旋轉泵(極限真空2×10-2mbar)

 

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